鑒於半導體、顯示器、汽車等主要產業的核心技術和人力外流問題嚴重，
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，韓國半導體產業協會（KSIA）建議南韓國會修改「產業技術洩露防止法」（簡稱「產技法」），
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，對國家核心技術外流及侵害行為加以重罰。南韓東亞日報引述業界消息報導，
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，半導體產業協會最近向國會產業通商資源中小風險企業委員會委員長洪日杓（在野黨自由韓國黨）和同黨國會議員李鐘培提交一份意見書，
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，內容主要針對加強保護南韓的核心技術，
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，包括對洩露、侵害技術的行為及對象再定義，
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，如何強化國家核心技術的資訊保護及保護措施，
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，以及加重對洩露和侵害核心技術的處罰等。 報導指出，半導體、顯示器、汽車等主要產業中，核心技術和人力不斷轉移到中國等其他國家，導致業界的損失不斷提高，但修改產技法的討論卻一直擱置在國會，原地踏步。這份意見書建議：「政府有關部門應該非公開地推進國家核心技術的資訊，限制相關專業技術人員轉職，同時必須強制他們簽訂保密協議等，尤其是對於侵害國家核心技術或把技術洩露到海外等行為，應採用新的處罰等強力制裁手段。」，